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“第4回五大特許庁長官・五極ユーザ会合”及び”五極ユーザ会議”開催

2015年5月21日、中国蘇州において、昨年の韓国釜山での第3回会議に引き続いて第4回の五大特許庁(日本、アメリカ、欧州、中国、韓国)長官と五極ユーザとの会合が開催されました。五大特許庁からはJPOの木原技監をはじめとして(伊藤長官は国会審議のため欠席)長官・副長官が出席し、五極ユーザは昨年と同様に、三極ユーザ(JIPA、AIPLA&IPO、Business Europe)会議のメンバー、韓国KINPA(Korea Intellectual Property Association)、中国PPAC(Patent Protection Association of China)が参加して開催されました。JIPAからは鈴木(崇)副理事長、宮下プロジェクトリーダー、森田プロジェクトサブリーダーほかが参加しました。なお、WIPOからSandage副事務局長がオブザーバ参加されました。

この会合は、五大特許庁が2007年からプロジェクトとして検討している各庁における特許審査の質と審査効率の向上を目指した議論に、五極ユーザからの意見・要望を聞き反映するために、五庁長官会合に合わせて開催され今回は4回目の開催となりました。

今回の第4回会合は、開催地中国から多数の参加があったため、全部で140名を超す参加者がありました。先ず五庁長官・副長官から各庁の最近の活動状況が紹介され、その後、五大特許庁が検討しているプロジェクトなどについてユーザからの意見・要望を説明し、庁側からコメントを頂き意見交換を行う、という形で進められました。
具体的には、グローバルドシエ、特許制度調和、PPHの今後の方向性、等多岐にわたるトピックスについて活発な議論が展開されました。JIPAからは、特に特許制度調和に関し、今後調和の議論を進める項目である「記載要件」及び「発明の単一性」について、調和を一層推進すべく昨年度から継続して調査・研究を進めた事項を、大塚特許第1委員会副委員長、大橋国際第1委員会前委員長から昨年に引き続きブレゼンを行い、各特許庁からJIPAの貢献が高い評価を得ました。今後も調査・研究を進め、制度調和に一層の貢献をしていく予定です。

なお、次回第5回会合は来年5月下旬〜6月上旬ころに日本(場所未定)での開催となります。

また、五大特許庁・五極ユーザ会合に先立ち、前日の5月20日に、五極ユーザのみの会議を開催しました。この会議では、各トピックの内容・検討状況の共有化を図ると共に、翌日の会合の準備として各トピックに対するユーザとしての意見・要望について意見交換を行い整理しました。

[Update 2015-06-09 ]