2003年度海外研修F2セミナー報告(第10回)―米国特許制度、法規および判例の研修―

日本知的財産協会海外研修F2セミナーは、米国の特許制度、裁判制度の系統的な習得を目的とし、約6ヶ月の事前研修、4週間のワシントンD.C.での現地セミナー及び事後研修で構成される。
今回のセミナー参加者は38名。地域ごとに5グループに分かれ予め配布されたテキストの全文和訳を含む自主的な事前研修及びセミナー運営にかかる事前準備を分担して進め、さらに6月には服部健一弁護士による講義と研修の概要説明を経て、ワシントンD.C.でのセミナーに臨んだ。
現地セミナーは10月6日(月)から10月31日(金)までの4週間で、30名に及ぶ米国弁護士を講師として特許法やUSPTO(米国特許商標庁)の審査手続の実態、陪審制度をはじめとする裁判制度、さらには米国特許法の改正や最新判例動向の紹介も織り込んで多岐にわたる講義が行われた。またその間、USPTO、CAFC(連邦巡回控訴裁判所)、連邦最高裁判所の訪問や、ITC(国際貿易委員会)の法廷での本番さながらの模擬裁判もあって充実したカリキュラムとなり貴重な経験を得ることが出来た。
今回のセミナーは、当協会から現地セミナーの実施を委託されたArmstrong、Westerman&Hattori、LLP法律事務所のArmstrongⅢ弁護士、服部健一弁護士及び事務所所員の方々の極めて周到な準備ときめ細かな対応によってセミナーの実効を大いに上げることができた。ここに感謝の意を表したい。